1、光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備 。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上 。
【光刻機是什么意思】2、生產(chǎn)集成電路的簡要步驟:利用模版去除晶圓表面的保護膜 。將晶圓浸泡在腐化劑中 , 失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路 。用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì) 。
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